国外的这些芯片企业，连夜召开会议，讨论的内容就是关于倪星南的这篇论文。
他们没有想到，华夏竟然能够出这么一篇论文。
从这篇论文的内容来看，大部分的企业认为湿式光刻法确实是一个可行的办法。
方向是没有错，并不代表他们会进行这样的研发。
现如今的光刻法，最大的限制就是光刻机的光源，波长卡在一百九十三纳米。
芯片的制成缩小到六十五纳米的时候，已经无法再进一步发展了。
想要继续发展，光源的波长必须再次缩短。
这个时候，半导体行业巨头尼康和佳能发挥传统技能，选择了保守求稳。
他们寄希望于一百五十七纳米波长光刻，以空气为介质的干式光刻技术上的突破。
只要能够突破这一层，他们就能继续领跑这个行业。
殊不知，这个技术的突破太过于困难。
前世他们研发了多年，最后还是被湿式光刻法超越了。
这一辈子，李兴文的出现，让湿式光刻法更快的登上了舞台。
至于这篇论文在国外的反响，跟前世并没有多大的区别。
湿式光刻法是一个不错的方向，想要实现却十分的困难。
在如此精密的仪器中加水，这个不是说说就可以实现的。
更为重要的是，现如今的光刻机厂商，已经将大量的研发投资，押注在一百五十七纳米干式光刻机。
此时让他们再开具一条技术路线，投资风险太大了。
第二天，尼康这边立马就发表了一篇反对的论文。论文的内容很简单，基本上就是在批判倪星南是在痴心妄想。
最终的结论只有一个，那就是湿式光刻法他们看来，根本是无法实现的。
行业大佬都这么说了，众人对于这篇论文顿时就没有了什么兴趣。