第402章硅与锗的提纯

作者:龙十傅 加入书签推荐本书

林思媛在心里默念着秒数。腐蚀的时间必须精确控制。时间太短,损伤层去不掉;时间太长,晶片会被彻底溶解。

“时间到。”

她用镊子将晶片迅速夹出,立刻放入旁边装满高纯度去离子水的超声波清洗槽中,彻底洗去表面残留的酸液。

经过酸洗后的锗晶片,展现出了一种完美的、没有任何晶格缺陷的镜面光泽。

这块晶片,随后被送入了真空扩散炉。在高温下,极微量的特定杂质被作为气体源通入炉内。杂质原子在热运动的驱动下,缓慢地扩散进入锗晶片的表层晶格中,完成了n型或p型半导体的物理转变。

所有的前置材料准备完毕。

在超净实验室的一台高倍立体显微镜下。一场决定人类信息时代走向的微观装配正在进行。

赵广陵亲自坐在显微镜前。

他的面前,是一个特制的微型机械夹具。

夹具的底座上,固定着一块经过掺杂处理的n型锗单晶基片。

而在夹具的上方,是两根细如发丝的金丝。

这就是世界上第一个点接触型晶体管的组装。

赵广陵的双手通过高精度的微调螺旋,缓慢地控制着两根金丝下降。

在显微镜放大了上百倍的视野中。

两根金丝的尖端,缓缓逼近锗晶片的表面。

物理距离在微米级别被压缩。

当金丝的尖端与晶片表面接触的瞬间。

赵广陵停止了移动。此时,这两根金丝,它们在晶片表面的接触点之间的物理距离,只有不到五十微米。

“接通成型电压。”赵广陵下达指令。

助理合上开关。一股短暂的高压大电流脉冲通过两根金丝注入锗晶片。

在接触点极小的微观区域内,电流产生了瞬间的高温。金丝中的镓原子在这个瞬间熔入了锗晶格中,在n型锗基片的表面,形成了两个极其微小的p型半导体区域。

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