第1162章 锡滴难题!AI强行救场

作者:十七光年 加入书签推荐本书

“啪”的一声巨响在安静的实验室里回荡。

“它的核心约束腔体内壁,不也是需要在超真空环境下,做到原子级的绝对光滑和平整度吗?还有那复杂的磁流体形态……离子束对材料表面的刻蚀……”

他像抓住救命稻草,整个人扑到电脑前,手指在键盘上快得带起残影。

大量的仿星器技术细节、离子流密度模型、真空腔壁材料在特定能量粒子轰击下的表面形变数据……以前积累的、与光刻机看似无关的实验数据,此刻如同奔腾的洪水找到了新的河道,疯狂地涌入设计euv反射镜的超精密抛光方案中!

两天两夜,不眠不休!伴随着浓烈的咖啡烟味和打印机疯狂的嘶鸣,一套截然不同的设计图纸诞生了!

不同于蔡司依赖的传统机械抛光和磁控溅射,它核心是基于超高能离子束在超洁净真空环境中对光学基片表面进行“原子级雕刻”,辅以动态补偿系统,将原先图纸锁死无法突破的0.1nm精度线,狠狠地压到了0.08nm!

图纸最终成型,墨迹未干。

苏定平盯着那最终的核心数据——“面型精度rms误差。

≤0.08nm”,一向沉稳的脸上也忍不住露出一丝狂喜的潮红。

他抓起图纸冲到隔壁的抛光实验室,声音沙哑却透着难以抑制的激动。

“老陈!按这个方案!立刻!准备实验!”

陈工接过图纸,只看了几眼,眼珠子就瞪圆了。

“离子束束径控制到0.5微米?能量分级补偿?这思路……绝了!苏总工……这……你从哪想出来的?”

“先人栽树。”

苏定平喘着气,眼中跳跃着灼热的光。

“仿星器的离子束约束技术!基础打得牢实,高点的墙也能翻过去!就按这个干!”

“干了!”

陈工吼了一声,带着团队冲进了改造好的实验间。

几天后,当第一面利用这全新工艺抛光出来的镜片核心基材,在比原子力显微镜更为精密的相位干涉轮廓仪下进行面型扫描时,整个检测间鸦雀无声。

显示屏上,代表着镜面平整度的三维彩色云图呈现惊人的淡蓝色,核心区域的那一抹刺眼的、象征高误差区的赤红色……消失了!

“rms……0.078nm!”

上一页 返回目录 下一页