第626章 光子的新剑

作者:小桥流水瘦马 加入书签推荐本书

第一壁高热流测试留下的异常曲线还在材料专线等待复核,苏明哲把wb-02的测试记录分成三份,分别交给材料组、设备组和结构组,要求各组沿原始数据重新检查,任何一处判断都得有对应记录。

产业新城的光子芯片研发中心却亮了一夜。

沈明轩站在c3工程原型旁,面前摆着三块控制终端,左侧终端显示采样频率,中间终端显示光谱分辨率,右侧终端连接着光子测控平台的时序记录。

金属机箱还保留着调试阶段的标签,外壳边缘有几道拆装留下的细痕,内部光路和光电转换模块经过多轮重排,原本属于航发fadec的控制架构,被重新接入等离子体光谱分析模块。

团队成员围在测试台四周,没人开口,所有人的视线都落在屏幕上。

沈明轩伸手按下启动键。

c3工程原型进入采样状态,光谱信号从模拟端输入,光子控制链完成时间标记,数据经过只读缓存后传入分析终端。

第一组数据跳出。

采样频率达到滨松公开平台的两点零三倍。

第二组数据紧跟着刷新。

在相同光谱分辨率下,c3的连续采样稳定保持两倍以上,短时峰值达到公开平台的两点一八倍,按照沈明轩团队建立的理论模型,距离三倍上限还留着提升空间。

负责记录的工程师抬起头:“沈总,连续采样跑过一轮,数据范围和昨夜一致。”

沈明轩盯着屏幕:“把昨夜和今天的原始文件叠在一起。”

两组曲线被调到同一页面,峰值位置、采样间隔和时间戳逐项重合,曲线边缘只有极小的误差。

“误差范围。”

“零点零四个百分点。”

“设备温度。”

“二十二点六摄氏度,变化小于零点二。”

“控制链状态。”

“三套时序记录一致。”

沈明轩伸手,把c3的工程编号贴到机箱正面。

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