第436章光刻机投入生产

作者:书生剑客123 加入书签推荐本书

门口没有华为的标识,安保却严密得如同铁桶,进出需要人脸识别、虹膜验证和动态密码,三重认证。

建筑地下三层,是一间代号"昆仑"的秘密实验室。

实验室面积不大,约四百平方米,干净得近乎无菌。

恒温恒湿控制系统将温度精确维持在22±0.1c,空气中的微粒数被控制在每立方米不超过100个。

实验室中央,一台银灰色的庞然大物静静矗立。

asml最新一代极紫外光刻机,euv。

这是江北在一个月前向龙国交付的第一台光刻机,经过拆卸、运输、重新组装和无数次调试后,它终于在这间地下实验室里运转了起来。

光刻机周围,十几名工程师围在一排监控屏幕前,屏幕上跳动着密密麻麻的数据流,曝光能量、晶圆对准精度、光刻胶厚度、数值孔径、焦深参数……

每一个数字都牵动着所有人的神经。

"流片开始。"项目负责人周博远深吸一口气,按下了启动键。

光刻机低沉地嗡鸣起来。

极紫外光以13.5纳米的波长,透过精密反射镜组,一层一层地将电路图案蚀刻在硅片上。

时间一分一秒地过去。

实验室里安静得只剩下设备运转的嗡嗡声和偶尔的键盘敲击声。

一个小时后。

第一片晶圆完成。

检测工程师赵琳将晶圆送入电子显微镜,开始逐区扫描检测。

屏幕上,芯片电路的结构图像一层层展开,如同在放大镜下观察一片精密的微缩森林。

赵琳的手指在键盘上飞快地敲击,统计着每一颗芯片的良品数据。

十分钟后,赵琳抬起头。

她的嘴唇微微颤了一下,"良品率……"赵琳声音有点发颤,"80.3%。"

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