“嗯，实验线还要重新做一轮。”
提到工作，艾米很快认真起来。
“零点一八微米目前只是一组线条，零点二五微米的芯片良率也很差。计算可以修正曝光图形，但光刻胶、对准和刻蚀却不会跟着自动变好。”
“所以，现在最适合推进的是零点三五微米？”
“对。”
艾米用力点头。
“现有设备还有余量。只要把几家工厂的工艺统一，再让玉匣（计算中心）持续修正，半年内就可以做出稳定的小批量产线。”
“那你需要什么？”
“新的掩模写入设备、晶圆检测系统，还有更多光刻胶样品。东京光学精密那边也得改一台曝光设备。”
“列清单。”
皋月端起牛奶。
“设备、人员和预算，下午以前交给远藤。能买的就买，买不到的再想其他办法。”
艾米愣了一会，眼睛一下就亮了起来。
“皋月酱真好！”
“先别高兴。”
皋月看了她一眼。
“下一次流片要是还是这个良率，你就去工厂里住到它提高为止。”
艾米认真地点头，随后又试探着问：
“那如果提高了，还有奖励吗？”
皋月的右手仿佛又开始隐隐发麻。
“先做出来再说。”