上沪，国际半导体大会主会场。
上午九点。
原本该是热闹的产业大会，此刻压得像战前动员。
会场外，展板还写着“国产替代”“先进制造”“协同攻关”。
会场内，所有人的脸都不好看。
美国封锁令正式文本已经公布。
名单比传闻更长。
芯片、eda、光刻设备、精密仪器、特种气体、高纯材料，一刀切下来，连边角料都不想给华夏留。
台上，一个老专家正在汇报。
“高端光刻机，我们目前最大的短板，仍然是核心物镜系统。”
“浸没式光路稳定性不足。”
“双工件台纳米级同步还没完全打穿。”
“光刻胶、掩膜版、特种气体、缺陷检测，也都有瓶颈。”
他说完，台下没有掌声。
不是不尊重，是大家心里都堵。
一个晶圆厂负责人低声问旁边人：
“你们库存还能撑多久？”
“光刻胶四十六天。”
“特气两个月。”
“eda授权呢？”
“最麻烦。”