一切全靠手工画图。
到了明年，大洋彼岸的gca公司才会造出第一台接触式光刻机。
这种老旧机器，就是把掩模版直接盖在硅片上曝光，跟洗照片差不多。
不仅容易污染掩模版，导致报废率很高。
通常成功率只有一成左右。
而且一张掩模版用十几次就废了。
林伟正要造的，可不是这种半自动的老古董。
他要打造的，是真正意义上的现代化设备。
采用渐进式光刻技术，结合先进激光光源。
能让芯片的结构更加精细。
这不仅是国内首台，更是全球第一台成熟的商用光刻机！
根据图纸数据，这台机器的良品率和生产速度，完全达到了现代设备的初级标准。
光刻机紧锣密鼓推进的同时，芯片研发也突飞猛进。
从最初设计的1.5微米，一路突破到了436纳米。
而这台光刻机的加工极限，更是达到了惊人的365纳米。
全球芯片技术要等到九十年代末，才会跨入亚微米时代。
在接下来的三十年里，这项技术将拥有绝对的统治力。
当然，硬件出炉，还需要软件配合。
系统没给编程相关的图纸，但林伟正脑子里有。
数字语言本来就是他的强项。
在秘密基地里，他天天给人讲课，普及各种编程代码。