在没有eda工业设计软件和计算机辅助的六十年代，这绝对是个地狱级的折磨。
专家们只能拿着放大镜和特制刻刀，一笔一划地在玻璃基板上进行手工微雕，然后再通过化学蚀刻，把电路图固定在上面。
这个过程繁琐且极易出错，稍有手抖，整块掩模版就直接报废。
在林伟正的亲自指导下，芯片组经历了无数次失败，终于在昨天成功刻出了第一张完美的掩模版！
这张掩模版上的电路图，是林伟正亲自操刀设计的1微米制程芯片！
这款芯片并不复杂，它是一颗专门为高精度数控机床和未来汽车中控设计的专用处理器。
对于工业设备来说，不需要太恐怖的浮点运算能力。这颗1微米芯片，已经足以完美胜任所有数控化指令。
在全场四百双眼睛的死死注视下。
林伟正深吸了一口气，亲自上手，开始制作人类历史上第一枚微米级芯片。
他熟练地将那张珍贵的掩模版装载进光刻机的卡槽里。
接着，取出一枚切割打磨得如同镜面般光滑的单晶硅片。
林伟正小心翼翼地把硅片放进前端的清洗舱。高压纯水和特殊溶剂交替喷洒，进行纳米级的无尘清洗。确保硅片表面没有一丝一毫的杂质。
随后，硅片被机械臂送入涂覆舱。
伴随着硅片的高速旋转，光刻机自动将一层薄如蝉翼的特种光刻胶，均匀地涂抹在硅片表面。
这一步极其关键。光刻胶涂抹得是否均匀，直接决定了最终芯片刻线的清晰度和良品率。
涂胶完毕的硅片，缓缓滑入核心曝光舱！
林伟正亲自握住控制摇杆。
由于这台初代机还没装配智能控制中枢，光束的聚焦和对准，还需要人工进行微调。
林伟正全神贯注地盯着显微目镜，手动锁定掩模版和硅片的对齐坐标。
确认无误后，果断按下红色的曝光按钮！
“滋——！”