六六年，中k院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。
八一年，中k院半导体研究所研制成功jk1半自动接近式光刻机。
八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功kha751型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的型。
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