而这个实验室能够建成，主要还是陈常在後世的公司中就有一座比这里还要高一个等级，达到了万级的高等级无尘车间。
不过那也只是军工级精密产品的生产车间，距离後世生产半导体、高级探测仪器的100级洁净度车间，那还差的远呢。
那种车间要求的是在一立方英尺的空间内，不大於0.3微米的微尘颗粒，不超过100
个。
现在陈常在这边，虽然还没有搞出来後世那种雷射光学尘埃粒子计数器，但是原始的白光散射型尘埃粒子计数器倒是已经被弄了出来。
本来这个东西到了1951年，才会被美国印第安纳大学的古克团队拿出来初代产品，1957年才被推广开来。
不过为了这个实验室，陈常在对精密仪器实验室和光学实验室下达了这个任务。
他们只是用了不到一年的时间，就把这个设备给搞了出来。
陈常在等人进入实验室时，里面已有三名研究员正在为今天的硫化铅pbs光电导多晶薄膜生成实验做准备工作了。
陈常在进来後，他既没有指导工作，也没有说话，他只是在看汤定缘他们进行实验的步骤。
毕竟如果谈谈理论，陈常在还可以和他们进行交流，但如果是要去实际上手搞实验，那他陈常在也不是王大恒和汤定缘的对手。
即便是那三个作为助理的研究员，动手能力也要比他陈常在强的多的多。
想要在熔融石英基片上，生成硫化铅pbs光电导多晶薄膜，是个非常繁复的过程。
首先他们要对熔融石英基片进行强酸洗液的浸泡，清洗掉基片抛光时残留的抛光粉末0
然後再用去离子水多次清洗基片，最後用烘乾箱低温烘乾。
烘乾後还要在金相显微镜下，逐片检查基片表面是否有划痕、有没有灰尘颗粒。
如果有灰尘，那基片就得返回清洗，如果基片表面有划痕，那麽这个基片就要再次进行抛光，如果划痕过深，那就只能报废。
而基片在清洗检查完成後就得尽快进行入浴生成，时间如果过长，基片上就有可能落上灰尘。
生成硫化铅光电导多晶薄膜的沉积反应溶液，是由醋酸铅、硫脲，作为铅硫源。
再把强硷氢氧化钠ph值调至10—11。再加入络合剂控制析出速度，防止溶液直接沉淀结块，无法在基片表面生成多晶薄膜。
而且这个混合顺序绝对不能错，必须先把醋酸铅和络合硷性溶液进行混合。